■サーフェスインテグリティ

仕上げ面粗さに加えて、疲労強度の支配要因である微小クラックや残留ひずみなどの加工変質層の影響を含んだ加工面の微視的性状を一般に意味するが、ときには、ミクロな表面構造や、物理・化学的な表面特性までも含んで用られることがある。

■サイザルバフ
サイザル麻の粗大長繊維による織布またはコード（紐）を用いて、回転体形に作製したバフ。優れた研磨能力があり、バフ研磨の粗・中・仕上げの各工程に適した構成様式、処理法のものが多数製造されている。

■サスペンション

�@微粒子が分散媒中に極めて安定に分散して存在し、全く沈降しないように見える状態のこと。�Aサスペンションを形成させるための添加剤のこと。

■サテンフィニッシュ

つや消し仕上げ。

■酸化アルミニウム

アルミナ。研磨剤には、α-アルミナ、γ-アルミナが使用される。高硬度の物質であり、通常は粒状で使用されるため、アルミナ砥粒とも呼ばれる。溶融アルミナ質砥粒や焼結アルミナ質砥粒はα-アルミナであり、ラッピング用に使用される。ポリシング用の微細アルミナは、γーアルミナであり、水酸化アルミニウムを熱処理後に微粉砕、分級して得られる。

■酸化クロム

金属材料のポリシングに適した砥粒であり、α-アルミナと同じ結晶構造を持ち、高融点、高硬度で化学的にも安定である。

■酸化ジルコニウム

製造時の温度により結晶構造が非晶質、準安定正方晶系、単斜晶系、正方晶系、立方晶系と変化するが、この中で比較的軟質な準安定正方晶系や単斜晶系のものがガラスや半導体のポリシングに用いられる。

■酸化セリウム

光学ガラスのポリシングでは、この砥粒が多用される。

■酸化鉄

ベンガラ。古くはガラスのポリシングで研磨剤として多用された。現在では酸化セリウムに置き換わっている。しかし、光学結晶部品などのポリシングにおいて酸化セリウムでは不満足な場合、今でもこれを用いることがある。

■磁気研磨

�@永久磁石と砥石などで研磨工具を構成し、磁石と金型など磁性工作物との間に発生する磁力を研磨圧とする固定砥粒方式の研磨。 �A磁性砥粒（砥粒と強磁性体で構成）に磁気を作用させて研磨力を発生させる遊離砥粒方式の精密研磨法。円筒研磨以外に平面、内面への適用も可能である。

■磁気浮揚研磨　

非磁性体砥粒を含む磁性流体に磁力が作用すると、非磁性体砥粒は磁性流体の表面に押出される。この現象を磁気浮揚現象と呼ぶ。非磁性体砥粒は磁性流体表面に高密度で浮揚することになり、表面にある工作物に対して強い押付け力で研磨できる。

■磁性砥粒

磁気研磨用砥粒であり、強磁性体と研磨材（砥粒）から構成され、数μｍから数百μｍ径のものがある。磁力を受けて工作物表面との間に研磨圧を発生させることができる。

■下向き研磨

工作物を下向きにして研磨する場合を指す。凹レンズの研磨では、凸形状の工具を上向きにし、それに凹レンズを上から覆いかぶせるように置いて、研磨液を上から供給しながら両者を相対運動させて研磨する。

■湿式ラッピング　

ラッピング用の砥粒を研磨液（水、油）に分散した研磨剤をラップ面上に供給して工作物を擦りつける通常のラッピング。砥粒は工作物とラップの双方に対して、押し付け、転動、引っ掻きの挙動をとり、微小切り屑を排出して除去加工を行う。水や油には砥粒の分散、潤滑、冷却の作用がある。。

■焼結砥粒

酸化物やホウ化物などを焼結により固めた砥粒。

■定盤

測定定盤、ラップ定盤、ポリシ定盤、プラテンなどを指す。特に研磨用には、鋳鉄、銅、錫などの金属板や天然石が用いられ、いずれも平面などの形状が所定の精度に仕上げてある。鋳鉄は粗研磨に、銅や錫は精密研磨に用いられる。プラテンはポリシングパッドを貼り付ける定盤である。

■シリカ　

二酸化珪素（ＳｉＯ_２）。代表的な研磨剤の材料。コロイダルシリカや高純度シリカの形で使用されることが多い。

■シリケート砥石

結合剤に水ガラス（珪酸ソーダ）を用いた砥石で、天然砥石のような柔らかい当たりをもつ。水ガラスが加工液中の水にわずかに溶出し、アルカリ性の潤滑剤として働く。