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	パルスレーザデポジションプロセス
	真空容器内に冷却されたターゲットとそれに向かい合って基板ホルダーを用意し、真空容器を貫通する光学的な窓を設け、大気側にエキシマレーザの光源を置きます。光源はパルスレーザが発生するようにしておきます。成膜時はパルスレーザを光学的な窓を通してターゲットに照射します。 　パルスレーザデポジション はレーザ光がターゲット表面で局部的な吸熱･蒸発が固体表面で起こる蒸発現象です。レーザアブレーションとも呼ばれています。
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