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活性化反応性蒸着プロセス

　活性化反応性蒸着法は、真空蒸着装置で蒸着時に反応性ガスを入れて、プラズマ励起電極に高周波や直流の電圧を印加し、発生する反応性ガスのプラズマ中で蒸着する方法です。
　この方法では蒸発材料が基板に到達したときに蒸発粒子がイオン化された反応性ガスと結合して、酸化物や窒化物の反応膜を形成しています。