 |
CVDは、膜材料が気体で供給され、気相の中で基板(基材)表面の化学反応により成膜が行われるため化学的気相成長(CVD: Chemical Vapor Deposition)と呼ばれます。
レーザCVDは、光CVDの光をレーザを用いたCVDプロセスのことで、レーザを用いることで、光CVDに比べて光強度が強く高速成膜ができます。また、単色光であるために反応選択性が高く品質の良い膜ができたり、収束させた光による微細な膜形成ができる、などの特徴があります。
大きな面積に成膜するときにはXYステージ上でスキャンしながら成膜をしています。 |
|
 |
