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	エネルギー分散型蛍光X線試験
	エネルギー分散型蛍光X線式膜厚測定は、測定試料にX線を照射して、薄膜から放射される蛍光X線を半導体検出器で測定して膜厚を求める方法です。蛍光X線の強度は、薄膜に含まれる元素の量に比例し、すなわち薄膜の厚さに比例します。 　 薄膜表面に凹凸があるときや、薄膜内部に気孔が存在するときに、それぞれの標準試験片を準備することが必要となります。また、薄膜と基板の組み合わせにも制約があるので、測定前に検討する必要があります。
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