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横型CVD成膜装置は、基板を水平にしてホルダーやサセプタの上に並べ、ガスの流れる方向が水平方向からの場合を指します。MOCVDなどの石英反応管を使う場合ではサセプタを高周波で加熱するために巻いたコイルで囲うことが多いですが、反応管を冷却するために水冷している場合をコールドウォール･タイプ、水冷しないで加熱させたものをホットウォール･タイプと呼んでいます。基板をホルダーに立てて設置するのは、膜のつきまわり性がよいCVDの特徴を活かしており、一度に投入できる基板の数を多くすることができます。
バッチ式は、一度反応管に基板をセットすると成膜処理が終了するまで取り出さずに、コーティングする方式をいいます。 |
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